F01
良导体趋肤深度
δ = √(2 / ωμσ) = 1 / √(πfμσ)场幅值进入导体后衰减至表面值 1/e 时的特征深度。
- δ
- 趋肤深度m
- f
- 频率Hz
- μ
- 绝对磁导率 μ₀μᵣH/m
- σ
- 电导率S/m
适用条件
- 良导体近似 σ ≫ ωε
- 均匀、各向同性材料
根据频率、电导率和相对磁导率估算导体中的趋肤深度。
材料参数会随频率、温度和加工状态变化;预设值仅用于工程估算。
输入参数后点击计算,结果和模型假设会显示在这里。
计算公式、变量含义和模型边界公开展示;参考资料最近核验于 2026-08-28.
直接参与主要结果计算,是本工具的核心模型。
1 个δ = √(2 / ωμσ) = 1 / √(πfμσ)场幅值进入导体后衰减至表面值 1/e 时的特征深度。
由核心量进一步推导单位、电平或辅助工程量。
2 个Rₛ = 1 / (σδ) = √(πfμ / σ)描述高频电流集中在导体表面时的单位方块等效电阻。
|E(z)| = |E(0)|e^(−z/δ)在良导体平面波近似下,电磁场幅值随深度按指数衰减。
结果基于页面列出的模型与假设,用于设计阶段估算和预认证风险判断。复杂结构、材料频散、近场耦合及测试布置可能造成显著偏差。
δ = 1 / √(π·f·μ·σ)。以铜(σ = 5.8×10⁷ S/m、μᵣ = 1)为例,1 MHz 时 δ ≈ 65.2 μm。
工程上常取 3~5 个趋肤深度作为有效屏蔽的参考厚度;具体要求取决于目标屏蔽效能、频率范围和成本约束。
良导体(σ ≫ ωε)内部场幅值按 e^(−z/δ) 指数衰减,电流集中在表面薄层内,等效交流电阻随频率升高而增大。
本工具用于设计阶段估算。正式的 EMC 测试、标准符合性判定与整改咨询,欢迎联系我们。